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第443章 国产联名 声援

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阿斯麦、尼康等光刻机巨头的官方账号虽未直接发声,但旗下高管的帖子、行业分析师的解读报告已形成围剿之势。

他们字里行间都在渲染“深蓝半导体技术威胁论”,暗示其光刻机存在“专利侵权”“性能未经验证”等问题。

海外巨头显然是铁了心要将深蓝半导体扼杀在摇篮里,一边切断部件供应,一边发动舆论抹黑,双管齐下试图摧毁市场信任。

不过,此时的舆论还都在网络上,并没有登录正规媒体。

当然,舆论在发酵,被大媒体关注也只是时间问题。

“老一套手法,毫无新意!”楚千澜嗤笑一声,便不再关注。

双方立场不同,争端已经不可避免,但深蓝半导体短时间不可能迈入海外市场,也没有必要与对方争夺海外舆论市场的主导权。

随着时间推移,海外围剿的消息顺着科技媒体的报道、行业社群的讨论,迅速蔓延至国内。

第二天一早,《半导体芯科技》率先刊发深度分析,标题直指核心《海外巨头联手绞杀!深蓝半导体光刻机遭遇供应链封锁与舆论围剿》。

文中详细梳理了阿斯麦、尼康等企业的隐性施压,以及国外部件供应商的集体断供行为。

不过,文章中没有任何确切证据,只有海外社交媒体的一些论文截图。

即便如此,依旧在国内网络引起不小的震动。微博、论坛等平台的相关话题讨论量呈爆炸式增长。

“海外巨头也太狠了!国内刚研发出45纳米光刻机,他们就要联合绞杀,这是怕我们打破垄断啊!”

“这消息是真的还是假的?那文章里的证据着实没有说服力,还是等两天再看吧!”

“深蓝半导体的供应链不会真出问题吧?国内替代部件能跟上吗?”

“心疼深蓝半导体!自主研发好不容易有了突破,就被这么针对性打压,资本的嘴脸太难看了!”

“之前还以为深蓝半导体研发出45纳米光刻机是炒作,现在看国外巨头的反应,已经可以确定,这消息是真的了!”

……

网络上的讨论愈发热烈,质疑与担忧交织,少数别有用心的水军借机散布“深蓝半导体技术造假”“国产替代必败”的负面言论,试图进一步扰乱市场信心。

就在舆论陷入混沌之际,四家国内企业几乎同时发布公告,引爆全网。

恒川机械在公告中详细披露,其为45纳米光刻机定制的磁悬浮工作台、精密机械臂已完成三轮极限测试,重复定位精度达±0.05微米,完全满足量产要求,首批4套核心部件将于12月25日前交付;

华宇特气则亮出12种半导体核心特种气体的检测报告,纯度均突破99.999%,符合生产45纳米芯片要求,已全面供应深蓝半导体,替代进口材料;

先锋晶圆的8英寸硅片良率已稳定在92%,12英寸硅片研发进入收尾阶段,将按深蓝半导体需求优先级供货,确保芯片产能;

寒星材料更是公布了为极紫外光源定制的特种涂层材料参数,耐高温、抗腐蚀性能较进口产品提升15%,已实现规模化生产,可随时响应订单。

在接下来的半天里,又有四十余家国内配套企业密集发声,他们都是获得深蓝半导体订单,为光刻机供应核心部件的厂商。

他们的产品从核心机械部件到特种材料,从光学元件到电子模组,全方位印证了深蓝半导体生产光刻机的底气与事实。

随着国内企业密集发声,如同一场精准的舆论反击战,瞬间扭转网络上的混乱局面。

恒川机械的磁悬浮工作台精度数据、华宇特气的高纯气体检测报告、先锋晶圆的硅片良率数据……一份份详实的证据链,如同重锤般击碎了“技术造假”“国产替代必败”的谣言。

微博上,“深蓝半导体布局国产光刻机供应链”的话题飞速攀升,短短两小时便冲上热搜榜首,相关话题阅读量突破1亿。

“太燃了!深蓝半导体为了生产光刻机,竟然同时给四十多家企业下订单!真的无法想象,深蓝半导体是如何研发出光刻机的?”

“恒川机械的±0.05微米定位精度,比国外同类产品还强,已经追平国外先进水准,这技术实力绝了!”

“以前总说国产技术不行,现在看看,从核心部件到特种材料,我们也是非常有竞争力的!”

“海外巨头想卡脖子?没门!这么多国内企业兜底,深蓝半导体的光刻机量产稳了!”

“那些散布谣言的水军可以闭嘴了,事实摆在眼前,国产光刻机不是炒作,是实打实的技术突破!”

……

网络舆论彻底沸腾,国内科技圈、制造业从业者纷纷自发声援。

某航天领域工程师发帖感慨:“深耕制造业的都懂,±0.05微米的定位精度意味着什么。这背后是精密加工、材料科学、控制算法的全面突破。

深蓝半导体能整合这么多国内企业的顶尖技术,搭建起完整供应链,比光刻机本身更值得骄傲!”

水木大学微电子实验室官微发文:“国产设备的崛起,让科研成本大幅降低,更能让学生接触到自主核心技术,这才是最有价值的传承。”

还有网友整理出“国产光刻机供应链图谱”,将恒川机械等四十余家配套企业的技术亮点一一标注,配文“这不是一家企业的胜利,是整个国产制造业的逆袭”,短短半天转发量突破10万。

在全民声援的热潮中,深蓝半导体的官方公告终于重磅发布。

公告开篇便直击核心:“近期,部分海外供应商受国际势力施压,无故暂停核心部件供应,企图阻碍国产光刻机研发进程。但我们早已布局全国产化替代方案,目前所有关键部件均已实现国内自主供应,45纳米光刻机量产不受任何影响。”

公告详细披露了45纳米光刻产线的核心参数:“整机核心部件国产化率92%,极紫外光源、磁悬浮工作台等关键模块性能对标国际先进水准。”

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