ASML的EUV 光刻机机台得“光线”经过十几面反射镜，将光从光源一路导到晶圆，最后大概只能剩下不到 2% 的光线，能量浪费严重，一台光刻机一天使用下来，最少也得需要上万度的电能。
然而，一条芯片生产线上可不仅仅只有一台光刻机这么简单。
实际上，一条芯片生产线它是由大约十余台不同型号的光刻机共同构成的，此外还有大量的高温/氧化/退火设备、化学气相沉积（CVD）设备、涂胶/去胶设备、刻蚀设备、离子注入设备、物理气相沉积设备、研磨抛光设备、清洗设备、检测设备等等。
如此多的设备，其耗电量可想而知。
尽管九州半导体的这个芯片生产基地摒弃了传统的“一台光刻机对应一个光源”的设计模式，并采用了更为节能的稳态微聚束光源技术，大大降低了能源消耗。
根据研发团队的介绍，这种新技术能够将光线利用率提升至 50%以上，如果未来能实现 20 条生产线全面投产，光线的利用率甚至有望超过 90%。
不过，这只是光刻机一项带来的改进，其他设备所需的电能并没有因此而减少。
每年耗费百亿度电是最少的，能直接把庐州的全年累计用电量提升一个大大的台阶。如果再加上给芯片半导体基地建设配套的那些工厂，简直是无法想象.......
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