193nm的干式DUV光刻机对阿斯麦来说，并不是多高大上的技术。
早在上个世纪90年代，他们就整了出来。
随后因为一个林姓的华裔研究出了浸没式技术。
其加入了台鸡电，在让台鸡电快速扩张的同时，也让阿斯麦成为了行业中的领头者。
在泥康这些日企苦苦研究干式光刻机的时候，他们的浸润式光刻技术，让阿斯麦一举成为了领先。
时至今天，阿斯麦已经研制了EUV光刻机，行业领先地位，再难撼动。
但是否意味着阿斯麦永远不会衰落呢？
并不是这样。
技术的突破，甚至是技术的更新，带来技术弯道超车，都可能让一个原本领先的技术公司，再次落后。
江奕辰就坚定地这么认为。
也不断地开展各类延伸性研究。
特别是自己的个人实验室，并不是江奕辰在主要研究光刻技术的时候，他们就闲着。
相反，江奕辰也给了不少的研究课题，让孙阳、罗钰牵头开展。
只要他们研究出来的技术，都进入江奕辰奕辰集团的技术鱼池。
一旦哪个技术获得应用，那么他们这些人也将会有巨大的技术分红。
如今大的技术不说，但江奕辰将一种电致发光材料交给他们研究之后，还真让他们整了新的东西。
不过江奕辰现在没有理会。
新光刻技术正在实验。
张成研究的高分子溶液暂时失败，找的数十个材料，虽然取得了一定效果，但却因为各种原因，没有办法采用。
唯独好一点的，制备纯度极高的溶液难度大不说，成本也高，还容易侵蚀衬底，让光刻的效果消散。
最后江奕辰把重点放在了孔连华的研究上。
孔连华研究的是一种特制的晶体。
在第一阶段研究的过程中，孔连华在江奕辰的提醒下就制备了超过10种的符合折光率条件的晶体。
全部超过超纯水的折光率。
其中最好的一种晶体，可以让光的波长，从193nm缩减到90nm。
这意味着可以轻易地制备14nm的芯片。
因为光的波长是横向尺寸，把光比作弯曲的钻头，弯曲成正弦波样子，那么弯曲一个来回，钻头的长就是波长。
用这个钻头来打孔，就会晃动，这是光波的打在被爆光的面上的精细程度。
如果采用多重曝光、鳍式场效应晶体管FinFET技术，突破到7nn，甚至5nm估计也不成问题。
只是这种晶体的缺点也较多，特别是高温形变问题是难点中的难点。
光刻，是光在晶圆上进行雕刻，
光不断地冲击，会让晶圆发热。
在晶圆上面再加一个晶体，比增加一个透镜的难度要大得多。
最后选定的，是镓镁晶体。
这种晶体，在特殊的技术处理之后，能够适应较高的温度，高温形变上能够有效改善。
当然，这种也只是改善，并不能完全解决。
“江总，我们的专家们厉害，把这个系统破解了，增加了一道非接触式光刻系统。”孔连华解释道，“就是咱们这么一搞，出问题后要阿斯麦的工程师来修就不可能的事了。”
不仅不能让人来修，还不能让人知道。
江奕辰并没有直接回复，而是看着一片测试晶圆的情况。
“检测结果，28nm工艺。”
就这么一个测试，就达到了28nm工艺的极限。
显而易见，镓镁晶体给193nm的光刻机带来了巨大的质变。
“单片晶圆光刻后，晶体的温度达到了80度。”
“再高一些，这个误差就无法软件纠正了。”
孔连华郁闷地说道。
江奕辰摆手，“增设一个降温系统即可，准备一个类似双工件台的设备，在每次光刻一个晶圆后，镓镁晶体同步撤出散热，换新的晶体上。”
张成在旁边看着抚掌赞叹，“对啊，既然改都改了，咱们改得更合适一些就行了。”
孔连华点头应是，“这倒是，看起来我们可以给这个技术取个名字了。”
“就叫改良型非接触式193nm光刻机。”
江奕辰直接定下了名字。
他可不想随便把这个技术透露出去。
哪怕是使用的是什么样的晶体。
至于制备技术，那就更是机密中的机密。
江奕辰与这些人全部都签订了最严格的保密协议。
以确保技术不会外泄。
不过想想也比较困难，因为关键的技术江奕辰、孔连华亲自掌握的。
只要两人不外透，就不存在外泄的问题。
孔连华又建议道，“不过，193nm的光刻机，咱们想搞掉也不容易。”
“多研究研究，买不到，我们自己造，造出适合我们使用的，造出更适应未来芯片的光刻机，”江奕辰给众人打气。
光刻机自然是顶尖的技术，但一定会有取下的那么一天。
实验通过，一些小问题，在江奕辰的提醒下，孔连华和张成立马准备修改。
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